Am Beräich vun der Hallefleederproduktioun beaflosst d'Sauberkeet vun der Cleanroom-Ëmwelt direkt den Ausbezuelungsquote vun der Waferproduktioun an d'Performance vun de Chips. Déi weltwäit TOP 5 Wafer-Fabrikatiounsanlagen hunn all traditionell Gossmaterialien ausgefasst a sinn op Granitplattforme gewiesselt. Hannert dëser Transformatioun steet dat ultimativt Striewen no enger Nullverschmotzungsëmfeld a Cleanrooms. Granitplattforme mat hiren eegenen Charakteristiken hunn ongegläichte Virdeeler a Cleanrooms bewisen a si sinn zum neie Favorit vun de Wafer-Fabrikatiounsanlagen ginn.
De "fatale Defekt" vu Gossmaterialien a proppere Raim
Goss, als traditionellt Industriematerial, hat fréier gewësse Virdeeler a punkto mechanesche Eegeschaften, awer et huet vill Problemer an der Halbleiter-Cleanroom-Ëmwelt. Éischtens ass d'Uewerflächenmikrostruktur vum Goss net dicht, mat enger grousser Zuel vu Poren a klenge Rëss, déi mam bloussen A net ze gesinn sinn. Wärend dem deegleche Betrib vu Cleanrooms sinn dës Poren héich ufälleg fir Stëbs, Uelegflecken a verschidde chemesch Schadstoffer ze adsorbéieren, wouduerch se zu Versteckplaze fir Verschmotzungsquellen ginn. Soubal Kontaminanten sech während de präzise Operatioune vun der Waferherstellung sammelen, kënne se eroffalen an un der Uewerfläch vum Wafer hänken, wat zu eeschte Qualitéitsproblemer wéi Kuerzschlëss an oppe Schaltungen am Chip féiert.
Zweetens huet Goss eng relativ schlecht chemesch Stabilitéit. Wärend dem Wafer-Produktiounsprozess gi verschidde korrosiv chemesch Reagenzien, wéi Flusssäure a Schwefelsäure, benotzt. Goss ass ufälleg fir Oxidatiouns- a Korrosiounsreaktiounen ënner der Erosioun vun dëse chemesche Substanzen. De Rost an d'Metallionen, déi duerch Korrosioun produzéiert ginn, verschmotzen net nëmmen d'Ëmwelt am Cleanroom, mä kënnen och chemesch Reaktioune mat de Materialien op der Waferoberfläche duerchféieren, wouduerch d'physikalesch a chemesch Eegeschafte vun de Wafere beschiedegt ginn an d'Produktergebnis däitlech reduzéiert gëtt.
D'"Nullverschmotzung"-Funktioun vu Granitplattformen
De Grond, firwat Granitplattforme vun den TOP 5 Wafer-Fabrikatiounsanlagen op der Welt bevorzugt ginn, läit an hirer inherenter "Nullverschmotzungs"-Eegeschaft. Granit ass en Natursteen, deen duerch geologesch Prozesser iwwer Honnerte vu Millioune Joer geformt gouf. Seng intern Mineralkristaller si fest kristalliséiert, d'Struktur ass dicht an eenheetlech, an et gëtt bal keng Poren op der Uewerfläch. Dës eenzegaarteg Struktur garantéiert, datt et kee Stëbs a Kontaminanten adsorbéiert. Och bei heefege Loftstroumstéierungen a Personal- an Ausrüstungsaktivitéiten am proppere Raum kann d'Uewerfläch vun der Granitplattform propper bleiwen, wat d'Ausbreedung a Verbreedung vu Kontaminanten verhënnert.
Wat d'chemesch Stabilitéit ugeet, leeschtet Granit aussergewéinlech gutt Resultater. Seng Haaptkomponente si Mineralstoffer wéi Quarz a Feldspat. Et huet extrem stabil chemesch Eegeschaften a reagéiert kaum mat übleche chemesche Reagenzien. Am komplexe chemeschen Ëmfeld vun der Waferproduktioun kënnen Granitplattforme mat Liichtegkeet d'Erosioun vu verschiddene korrosive Reagenzien handhaben, ouni Korrosiounsprodukter oder Metallionenverschmotzung ze generéieren, wat eng sécher a propper Basisplattform fir d'Waferproduktioun bitt. Gläichzäiteg ass Granit net leetend a generéiert keng statesch Elektrizitéit, wouduerch de Risiko vun der Verschmotzung duerch statesch Elektrizitéit, déi Staubpartikelen absorbéiert, vermeit gëtt an d'Ëmweltqualitéit vum proppere Raum weider garantéiert gëtt.
Materialauswiel aus Käschte- a Virdeelsperspektiv
Och wann déi initial Beschaffungskäschte vu Granitplattforme relativ méi héich sinn ewéi déi vu Gossplattforme, iwwerschreiden déi ëmfaassend Virdeeler, déi se bréngen, op laang Siicht den Ënnerscheed an de Käschten. Déi heefeg Reinigung an Ënnerhalt vu Gossplattforme wéinst Verschmotzungsproblemer, souwéi déi enorm Verloschter, déi duerch d'Erhéijung vun de Produktdefektraten verursaacht ginn, hunn d'Gesamtproduktiounskäschten héich gehalen. D'Granitplattform, mat hirem Nullverschmotzungsvirdeel, reduzéiert d'Frequenz vun der Reinigung an der Ënnerhaltung am Cleanroom an d'Defektrate vu Produkter däitlech, senkt d'Betribskäschten a verbessert d'Produktiounseffizienz an d'Produktqualitéit. Zum Beispill eng Fabréck mat enger jäerlecher Produktiounskapazitéit vun enger Millioun Waferen. Nodeems Granitplattforme agefouert goufen, kënne Verloschter, déi duerch Verschmotzung verursaacht ginn, ëm iwwer zéng Millioune Yuan pro Joer reduzéiert ginn, an d'Rendement op d'Investitioun ass ganz beträchtlech.
Déi TOP 5 weltwäit Wafer-Fabrikatiounsanlagen hunn Goss opginn a Granitplattforme gewielt, baséiert op enger ëmfaassender Berücksichtegung vun den Ufuerderunge fir Cleanroom-Ëmfeld an d'Produktiounseffizienz. De Virdeel vun der Nullverschmotzung vu Granitplattforme bitt eng zouverlässeg Garantie fir d'Waferproduktioun a féiert d'Hallefleederproduktioun zu enger méi héijer Präzisioun an héijen Ausbezungsraten. Mat der kontinuéierlecher Entwécklung vun der Hallefleedertechnologie wäerten Granitplattforme sécherlech eng ëmmer méi wichteg Roll an der zukünfteger Waferproduktioun spillen.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 14. Mee 2025