Granit ass eng Zort schwéier Fiels, déi zu engem onverzichtbare Material an der Hallefleitfabrikatiounsindustrie ginn ass.Seng Eegeschafte erlaben et héich Temperaturen ze widderstoen, déi mécht et ideal fir benotzen an verschidden Etappe vun semiconductor Apparat Fabrikatioun Prozesser.Als Resultat, huet Granit Assemblée extensiv Applikatioun Beräicher an semiconductor Fabrikatioun Prozess Apparat Produiten fonnt.
Ee vun de meescht benotzten Uwendunge vu Granitmontage ass am Bau vun héichpräzis Maschinninstrumentstrukturen.D'Steifheet an d'Stabilitéit vum Granit maachen et méiglech präzis a präzis Tools mat wéineg oder guer keng Verformung ze produzéieren.Dëse Präzisiounsniveau ass noutwendeg bei Hallefleitfabrikatiounsprozesser wéi Ioneimplantatioun, wou de Strahl präzis op de Wafer geriicht muss ginn.
Eng aner Uwendung vu Granitmontage an der Hallefleitfabrikatioun ass am Bau vu Metrologieausrüstung.Metrologie Ausrüstung ass vital an Halbleiter Fabrikatiounsprozesser well se d'Genauegkeet vun den Apparater moosst an iwwerpréift.Granit Dimensiounsstabilitéit, geréng thermesch Expansioun, an exzellente Schwéngungsdämpfungseigenschaften maachen et zum Material vun der Wiel am Bau vun Metrologieausrüstung.Dëst beinhalt grouss Granitflächen, déi an der Inszenéierung an der Inspektioun vu Wafere benotzt ginn.
Optesch Dëscher sinn nach en anert Gebitt vun extensiv Uwendung vun Granit Assemblée an der semiconductor Industrie.Optesch Dëscher ginn am Test vun opteschen Apparater wéi Welleleit fir Datekommunikatioun benotzt.D'Flaachheet vum Granit, d'niddereg thermesch Expansioun, d'héich Steifheet a d'mechanesch Stabilitéit erméiglechen et eng héich stabil Uewerfläch fir d'Montage an d'Positionéierung vun der Optik ze bidden.Granit Optesch Dëscher kënnen d'Stabilitéit an d'Steifegkeet ubidden fir präzis a präzis Tester vun opteschen Apparater ze maachen.
Granit fënnt och Uwendung am Bau vu Wafer Chucks a Bühnen.Wärend dem Semiconductor Fabrikatiounsprozess ass Präzisioun Ausrichtung a Positiounskontroll entscheedend.Wafer Chucks, déi d'Waferen op der Plaz während der Veraarbechtung halen, mussen d'Positiounsgenauegkeet behalen, wärend se héich Temperaturen a Vakuumbedéngungen widderstoen.Granit huet exzellent Dimensiounsstabilitéit iwwer eng breet Palette vun Temperaturen a kann Vakuumbedéngungen widderstoen, sou datt et ideal ass fir de Bau vu Wafer Chucks.Etappen, déi an der Bewegung vu Wafere vun enger Positioun op déi aner benotzt ginn, ginn duerch eng Vëlossequenz vu Beweegunge wärend engem Halbleiterfabrikatiounsprozess.Granit Assemblée bitt Stabilitéit an Haltbarkeet néideg fir déi kontinuéierlech a repetitive Bewegungszyklen ze droen.
Zesummegefaasst ass d'Applikatioun vu Granitmontage an der Hallefleitproduktiounsindustrie enorm.Seng Eegeschafte wéi Dimensiounsstabilitéit, geréng thermesch Expansioun, héich Steifheet, a Schwéngungsdämpfung maachen et en idealt Material fir ze benotzen a verschiddene Stadien vun Halbleitergeräter Fabrikatiounsprozesser.Vun der Konstruktioun vun héich-Präzisioun Maschinn Handwierksgeschir a Metrologie Equipement ze opteschen Dëscher an wafer Etappe an chucks, Granit Attributer spillen eng entscheedend Roll fir Stabilitéit, Genauegkeet, a Widderhuelbarkeet néideg fir héich-Qualitéit hallefleeder Apparat Fabrikatioun ze erreechen.
Post Zäit: Dez-06-2023