An Ausrüstung fir d'Produktioun vu Hallefleeder an optoelektronesche Komponenten gëtt Granit haaptsächlech a Schlësseldeeler wéi Präzisiounsbewegungsplattformen, Führungsschinnebasen, Schwéngungsisolatiounsträgerstrukturen an Installatiounssubstrater fir optesch Komponenten benotzt. Dës Deeler hunn extrem héich Ufuerderungen u Präzisioun, Stabilitéit an Ëmwelttoleranz. D'Charakteristike vum Granit kënnen déi streng Ufuerderunge vun der Hallefleeder- an optoelektronescher Industrie präzis erfëllen. Hei sinn d'Analyse vu spezifeschen Uwendungsszenarien a Virdeeler:
I. Haaptdeeler vun der Uwendung
Präzisiounsbewegungsplattformen (wéi z.B. Waferplattforme fir Photolithographiemaschinnen a Bondingmaschinnen)
Et gëtt benotzt fir Präzisiounskomponenten wéi Waferen an optesch Lënsen ze transportéieren, wouduerch Translatiouns- a Rotatiounsbeweegunge mat Nanoskala-Genauegkeet erreecht ginn.
Typesch Ausrüstung: Werkstücksdësch vun der Photolithographiemaschinn, Positionéierungsplattform vun der Miessausrüstung.
Führungsschinnenbasis a Framestruktur
Als Installatiounsbasis fir linear Féierungen a Loftflotatiounsféierungen ënnerstëtzt et de Kärbeweegungsmechanismus vun der Ausrüstung.
Typesch Ausrüstung: mechanesch Rahmen vun Hallefleederverpackungsausrüstung an optesch Inspektiounsinstrumenter.
Vibratiounsisolatiounsënnerstëtzung a stabiliséierend Struktur
Et gëtt benotzt fir extern Schwéngungen (wéi Schwéngungen aus dem Fabrécksbuedem oder beim Betrib vun den Ausrüstungen) ze isoléieren, fir d'Stabilitéit vun optesche Systemer oder Präzisiounsmaschinnen ze garantéieren.
Typesch Szenarien: Basisënnerstëtzung fir optesch Mikroskoper a Laserinterferometer.
Substrat fir d'Montage vun optesche Komponenten
Befestegt optesch Apparater wéi Spigelen, Prismen a Laser fir déi laangfristeg Stabilitéit vun der Ausriichtungsgenauegkeet vum optesche Weesystem ze garantéieren.
Typesch Ausrüstung: Optoelektronesch Verpackungsausrüstung, optesch Faserkupplungssystemer.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 29. Mee 2025