Am Beräich vun der Inspektioun vu Hallefleederwaferen hänkt d'Rengheet vun der Cleanroom-Ëmwelt direkt mam Produktausbezuch zesummen. Well d'Prezisioun vun de Chip-Fabrikatiounsprozesser sech weider verbessert, ginn d'Ufuerderunge fir d'Droeplattforme vun der Detektiounsausrüstung ëmmer méi streng. Granitplattforme mat hire Charakteristike vun null Metallionenfräisetzung a gerénger Partikelverschmotzung hunn traditionell Edelstahlmaterialien iwwerholl a sinn déi bevorzugt Léisung fir Waferinspektiounsausrüstung ginn.
Granit ass e natierlecht magmatescht Gestengs, dat haaptsächlech aus netmetallesche Mineralstoffer wéi Quarz, Feldspat a Glimmer besteet. Dës Eegeschaft gëtt him de Virdeel, datt et keng Metallionen fräisetzt. Am Géigesaz dozou ass Edelstol, als Legierung vu Metaller wéi Eisen, Chrom an Néckel, ufälleg fir elektrochemesch Korrosioun op senger Uewerfläch wéinst der Erosioun vu Waasserdamp a sauren oder alkalesche Gasen an enger propperer Raimëmfeld, wat zu der Nidderschlagung vu Metallionen wéi Fe²⁺ a Cr³⁺ féiert. Soubal dës kleng Ionen sech un d'Uewerfläch vum Wafer befestegen, änneren se d'elektresch Eegeschafte vum Hallefleitermaterial a spéidere Prozesser wéi Photolithographie an Ätzen, verursaachen eng Schwellspannungsdrift vum Transistor a féieren souguer zu Kuerzschlëss am Circuit. Testdaten vu professionellen Institutiounen weisen, datt nodeems d'Granitplattform kontinuéierlech enger simuléierter propperer Raumtemperatur an -fiichtegkeet (23±0,5℃, 45%±5% RH) fir 1000 Stonnen ausgesat war, d'Fräisetzung vu Metallionen méi niddreg war wéi d'Detektiounsgrenz (< 0,1ppb). D'Defektquote vu Waferen, déi duerch Metallionenkontaminatioun verursaacht ginn, wann Edelstahlplattforme benotzt ginn, kann tëscht 15% an 20% sinn.
Wat d'Kontroll vun der Partikelkontaminatioun ugeet, leeschte Granitplattforme och aussergewéinlech gutt. Cleanrooms hunn extrem héich Ufuerderungen un d'Konzentratioun vu suspendéierte Partikelen an der Loft. Zum Beispill, an ISO Klass 1 Cleanrooms, ass d'Zuel vun den 0,1μm Partikelen, déi pro Kubikmeter erlaabt sinn, net méi wéi 10. Och wann d'Edelstahlplattform eng Polierbehandlung gemaach huet, kann et ëmmer nach Metallreschter oder Oxidschuel produzéieren, déi duerch extern Kräften wéi Ausrüstungsvibratiounen a Personalbetrieb ofblätteren, wat de optesche Wee vun der Detektioun stéiere kann oder d'Uewerfläch vum Wafer kraze kann. Granitplattforme mat hirer dichter Mineralstruktur (Dicht ≥2,7g/cm³) an héijer Häert (6-7 op der Mohs-Skala) si bei laangfristegem Gebrauch net ufälleg fir Verschleiung oder Broch. Miessunge weisen, datt si d'Konzentratioun vu suspendéierte Partikelen an der Loft vum Detektiounsberäich ëm méi wéi 40% am Verglach mat Edelstahlplattforme reduzéiere kënnen, wouduerch d'Cleanroom-Qualitéitsnormen effektiv erhale bleiwen.
Nieft senge propperen Eegeschaften iwwerschreit d'Ëmfangsstäerkt vu Granitplattforme och déi vu Stol wäit. Wat d'thermesch Stabilitéit ugeet, ass säin thermeschen Ausdehnungskoeffizient nëmmen (4-8) × 10⁻⁶/℃, manner wéi d'Halschent vun deem vu Stol (ongeféier 17×10⁻⁶/℃), wat d'Positionéierungsgenauegkeet vun der Detektiounsausrüstung besser erhale kann, wann d'Temperatur am proppere Raum schwankt. Déi héich Dämpfungscharakteristik (Dämpfungsverhältnis > 0,05) kann d'Vibratioun vun der Ausrüstung séier ofschwächen an verhënneren, datt d'Detektiounssond ziddert. Seng natierlech Korrosiounsbeständegkeet erméiglecht et, stabil ze bleiwen, och wann se Photoresist-Léisungsmëttel, Ätzgase an aner Chemikalien ausgesat ass, ouni datt zousätzlech Beschichtungsschutz néideg ass.
Aktuell gi Granitplattforme wäit verbreet a fortgeschrattene Wafer-Produktiounsanlagen agesat. Donnéeë weisen datt nodeems d'Granitplattform agefouert gouf, d'Feelschätzungsquote vun der Detektioun vu Wafer-Uewerflächenpartikelen ëm 60% erofgaangen ass, den Ausrüstungskalibrierungszyklus ëm d'dräifalteg verlängert gouf an d'Gesamtproduktiounskäschte ëm 25% gefall sinn. Well d'Halbleiterindustrie sech op méi héich Präzisioun konzentréiert, wäerten d'Granitplattforme mat hire Kärvirdeeler wéi Null Metallionenfräisetzung a gerénger Partikelverschmotzung weiderhin eng stabil an zouverlässeg Ënnerstëtzung fir d'Waferinspektioun ubidden an eng wichteg Kraaft fir de Fortschrëtt vun der Industrie ginn.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 20. Mee 2025