An der Hallefleederfabrikatiounswerkstatt sinn d'Ufuerderunge vum Chipfabrikatiounsprozess u Ëmweltbedingungen a Genauegkeet vun der Ausrüstung extrem, an all kleng Ofwäichung kann zu engem däitleche Réckgang vum Chiprendement féieren. D'XYZT Präzisiounsportalbewegungplattform baséiert op Granitkomponenten, déi mat aneren Deeler vun der Plattform zesummeschaffen, fir eng solid Basis fir d'Erreeche vun der Nanoskala-Genauegkeet ze bauen.
Excellent Schwéngungsblockéierend Eegeschaften
An der Hallefleederfabrikatiounswerkstatt kann de Betrib vu Peripheriegeräter a Personal, dat ronderëm trëppelt, Vibratiounen verursaachen. Déi intern Struktur vu Granitkomponenten ass dicht an eenheetlech, mat natierlechen héijen Dämpfungseigenschaften, wéi eng effizient Vibratiouns-"Barriär". Wann déi extern Vibratioun op d'XYZT-Plattform iwwerdroe gëtt, kann d'Granitkomponent effektiv méi wéi 80% vun der Vibratiounsenergie ofschwächen an d'Interferenz vun der Vibratioun op d'Genauegkeet vun der Plattformbewegung reduzéieren. Gläichzäiteg ass d'Plattform mat engem héichpräzisen Loftschwimmleitungssystem ausgestatt, dat zesumme mat de Granitkomponenten funktionéiert. D'Loftschwimmleitung benotzt de stabile Gasfilm, deen duerch Héichdrockgas geformt gëtt, fir déi kontaktlos Ophiewebewegung vun de bewegende Deeler vun der Plattform ze realiséieren an déi kleng Vibratiounen ze reduzéieren, déi duerch mechanesch Reibung verursaacht ginn. Zesummen suergen déi zwee dofir, datt d'Genauegkeet vun der Plattformpositionéierung a Schlësselprozesser wéi Chiplithographie an Ätzen ëmmer op Nanometerniveau gehale gëtt, an d'Ofwäichung vu Chipkreesmuster, déi duerch Vibratioun verursaacht ginn, ze vermeiden.
Excellent thermesch Stabilitéit
D'Schwankunge vun Temperatur a Fiichtegkeet an der Werkstatt hunn e groussen Afloss op d'Genauegkeet vun der Chipfabrikatiounsausrüstung. Den thermeschen Ausdehnungskoeffizient vu Granit ass ganz niddreg, normalerweis bei 5-7 × 10⁻⁶/℃, an d'Gréisst bleift bal onverännert wann d'Temperatur ännert. Och wann den Temperaturënnerscheed tëscht Dag an Nuecht an der Werkstatt oder d'Hëtztproduktioun vun der Ausrüstung d'Ëmfeldtemperatur schwankt, kënnen d'Granitkomponenten stabil bleiwen, fir d'Deformatioun vun der Plattform duerch thermesch Ausdehnung a Kontraktioun ze vermeiden. Gläichzäiteg iwwerwaacht dat intelligent Temperaturkontrollsystem, dat mat der Plattform ausgestatt ass, d'Ëmfeldtemperatur a Echtzäit, passt automatesch d'Klimaanlag an d'Hëtztofleedungsausrüstung un an hält d'Werkstatttemperatur op 20 °C ±1 °C. Kombinéiert mat de Virdeeler vun der Hëtztstabilitéit vum Granit, garantéiert dat, datt d'Plattform am laangfristege Betrib an d'Beweegungsgenauegkeet vun all Achs ëmmer d'Nanometerpräzisiounsnormen vun der Chipfabrikatioun entsprécht, fir sécherzestellen, datt d'Gréisst vum Chiplithographiemuster korrekt ass an d'Ätzdéift gläichméisseg ass.
Erfëllt d'Bedierfnesser vun enger propperer Ëmwelt
D'Halbleiterfabrikatiounsatelier muss e ganz héije Grad u Rengheet behalen, fir ze verhënneren, datt Staubpartikelen de Chip kontaminéieren. De Granitmaterial selwer produzéiert kee Staub, an d'Uewerfläch ass glat, sou datt de Staub net einfach absorbéiert gëtt. D'Plattform als Ganzt benotzt en komplett zouenen oder hallef zouenen Strukturdesign, fir den Antrëtt vun externem Staub ze reduzéieren. Dat internt Loftzirkulatiounssystem ass mam proppere Klimaanlagsystem vun der Atelier verbonnen, fir sécherzestellen, datt d'intern Loftreinheet den Niveau erreecht, deen fir d'Chipfabrikatioun erfuerderlech ass. An dëser propperer Ëmwelt beaflossen d'Granitkomponenten d'Leeschtung net duerch Stauberosioun, a Schlësselkomponenten wéi héichpräzis Sensoren a Motoren vun der Plattform kënnen och stabil funktionéieren, wat eng kontinuéierlech an zouverlässeg Nanoskala-Genauegkeetsgarantie fir d'Chipfabrikatioun bitt an der Hallefleiterindustrie hëlleft, op en méi héije Prozessniveau ze kommen.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 14. Abrëll 2025