An der Hallefleederproduktioun ass d'Photolithographiemaschinn e Schlësselapparat, deen d'Prezisioun vu Chips bestëmmt, an d'Granitbasis, mat hire ville Charakteristiken, ass zu engem onverzichtbaren Deel vun der Photolithographiemaschinn ginn.
Thermesch Stabilitéit: De "Schëld" géint Temperaturännerungen
Wann eng Photolithographiemaschinn am Betrib ass, generéiert se eng grouss Quantitéit un Hëtzt. Och eng Temperaturschwankung vun nëmmen 0,1 ℃ kann zu Verformunge vun den Ausrüstungskomponenten féieren an d'Genauegkeet vun der Photolithographie beaflossen. Den thermeschen Ausdehnungskoeffizient vu Granit ass extrem niddreg, nëmmen 4-8 × 10⁻⁶/℃, wat ongeféier 1/3 vun deem vu Stol an 1/5 vun deem vun enger Aluminiumlegierung ass. Dëst erméiglecht et der Granitbasis eng dimensional Stabilitéit ze behalen, wann d'Fotolithographiemaschinn laang leeft oder wann d'Ëmwelttemperatur ännert, wat déi präzis Positionéierung vun optesche Komponenten a mechanesche Strukturen garantéiert.
Super Anti-Vibratiounsleistung: De "Schwamm", deen d'Vibratioun absorbéiert
An enger Hallefleederfabréck kënnen de Betrib vun Ëmgéigend-Ausrüstung an d'Beweegung vu Leit Schwéngungen generéieren. Granit huet eng héich Dicht an eng haart Textur, an et huet exzellent Dämpfungseigenschaften, mat engem Dämpfungsverhältnis, dat 2 bis 5 Mol sou héich ass wéi dat vu Metaller. Wann extern Schwéngungen op d'Granitbasis iwwerdroe ginn, konvertéiert d'Reibung tëscht den internen Mineralkristaller d'Vibratiounsenergie an Hëtztenergie fir d'Ofdreiwung, wat d'Vibratioun a kuerzer Zäit däitlech reduzéiere kann, sou datt d'Photolithographiemaschinn d'Stabilitéit séier erëm hierstellt an Onschärft oder Fehlausriichtung vum Photolithographiemuster wéinst Schwéngungen vermeit.
Chemesch Stabilitéit: De "Schützer" vun enger propperer Ëmwelt
Den Interieur vun enger Photolithographiemaschinn kënnt a Kontakt mat verschiddene chemesche Medien, an normal Metallmaterialien si ufälleg fir Korrosioun oder d'Verëffentlechung vu Partikelen. Granit besteet aus Mineralstoffer wéi Quarz a Feldspat. Et huet stabil chemesch Eegeschaften a staark Korrosiounsbeständegkeet. Nodeems et a Säure- an Alkali-Léisungen agewächt gouf, ass d'Uewerflächenkorrosioun extrem kleng. Gläichzäiteg generéiert seng dicht Struktur bal kee Schutt oder Stëbs, erfëllt d'Ufuerderunge vun den héchste Standarden fir Reinraim a reduzéiert de Risiko vun enger Waferkontaminatioun.
Veraarbechtungsadaptabilitéit: Dat "idealt Material" fir präzis Benchmarks ze kreéieren
Déi zentral Komponente vun der Photolithographiemaschinn mussen op enger héichpräziser Referenzuewerfläch installéiert ginn. Déi intern Struktur vum Granit ass eenheetlech an et ass einfach mat extrem héijer Präzisioun duerch Schleifen, Polieren an aner Techniken ze veraarbechten. Seng Flaachheet kann ≤0,5 μm/m erreechen, an d'Uewerflächenrauheet Ra ass ≤0,05 μm, wat eng präzis Installatiounsbasis fir Komponenten wéi optesch Lënsen bitt.
Laang Liewensdauer a wartungsfräi: Déi "scharf Tools" fir Käschtereduktioun
Am Verglach mat Metallmaterialien, déi bei laangfristegem Gebrauch ufälleg fir Middegkeet a Rëssbildung sinn, mécht Granit ënner normale Belaaschtungen kaum plastesch Deformatiounen oder Bréch duerch, an et brauch keng Uewerflächenbehandlung, sou datt de Risiko vun der Ofblätterung vun der Beschichtung a Kontaminatioun vermeit gëtt. A prakteschen Uwendungen, no ville Jore Gebrauch, kënnen déi wichtegst Leeschtungsindikatoren vun der Granitbasis ëmmer nach stabil bleiwen, wat d'Betribs- a Wartungskäschte vun der Ausrüstung reduzéiert.
Vun der thermescher Stabilitéit, der Schwéngungsbeständegkeet bis zur chemescher Inertitéit entspriechen déi villfälteg Charakteristike vun der Granitbasis perfekt den Ufuerderunge vun der Photolithographiemaschinn. Well de Chip-Fabrikatiounsprozess sech weider a Richtung méi héich Präzisioun entwéckelt, wäerten d'Granitbasisse weiderhin eng onverzichtbar Roll am Beräich vun der Hallefleederproduktioun spillen.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 20. Mee 2025