Am Beräich vun der Hallefleederproduktioun, als Kärausrüstung, déi d'Prezisioun vum Chip-Fabrikatiounsprozess bestëmmt, ass d'Stabilitéit vum internen Ëmfeld vun der Photolithographiemaschinn vu vitaler Wichtegkeet. Vun der Anregung vun der extremer ultravioletter Liichtquell bis zum Betrib vun der Nanoskala-Prezisiounsbewegungsplattform kann et keng kleng Ofwäichung an all Glied ginn. Granitbasen, mat enger Rei vun eenzegaartegen Eegeschaften, weisen ongegläich Virdeeler fir de stabile Betrib vu Photolithographiemaschinnen ze garantéieren an d'Genauegkeet vun der Photolithographie ze verbesseren.
Aussergewéinlech elektromagnetesch Abschirmungsleistung
Den Interieur vun enger Photolithographiemaschinn ass mat enger komplexer elektromagnetescher Ëmwelt gefëllt. Elektromagnetesch Stéierungen (EMI), déi duerch Komponenten wéi extrem ultraviolett Liichtquellen, Undriffsmotoren an Héichfrequenz-Stroumversuergungen generéiert ginn, beaflossen, wa se net effektiv kontrolléiert ginn, d'Leeschtung vu Präzisiounselektronesche Komponenten an optesche Systemer am Ausrüstung eescht. Zum Beispill kënnen Stéierungen liicht Ofwäichungen an de Photolithographie-Muster verursaachen. A fortgeschrattene Produktiounsprozesser ass dëst genuch fir zu falschen Transistorverbindungen um Chip ze féieren, wat d'Chip-Ausbezuelung däitlech reduzéiert.
Granit ass en net-metallescht Material a leet keng Elektrizitéit eleng. Et gëtt kee elektromagnetescht Induktiounsphänomen, dat duerch d'Beweegung vu fräien Elektronen dobannen verursaacht gëtt, wéi a metallesche Materialien. Dës Charakteristik mécht et zu engem natierlechen elektromagnetesche Schutzkierper, deen den Iwwerdroungswee vun interner elektromagnetescher Stéierung effektiv blockéiere kann. Wann dat ofwiesselnd Magnéitfeld, dat vun der externer elektromagnetescher Stéierungsquell generéiert gëtt, sech op d'Granitbasis ausbreet, well de Granit net-magnetesch ass a net magnetiséiert ka ginn, ass et schwéier, datt dat ofwiesselnd Magnéitfeld penetréiert, wouduerch d'Haaptkomponente vun der Photolithographiemaschinn, déi op der Basis installéiert ass, wéi Präzisiounssensoren an optesch Lënsenjustierungsapparater, virum Afloss vun elektromagnetescher Stéierung geschützt ginn an d'Genauegkeet vum Mustertransfer während dem Photolithographieprozess garantéiert gëtt.
Excellent Vakuumkompatibilitéit
Well extremt ultraviolett Liicht (EUV) liicht vun all Substanzen, och vun der Loft, absorbéiert gëtt, mussen EUV-Lithographiemaschinnen an engem Vakuumëmfeld funktionéieren. An dësem Punkt gëtt d'Kompatibilitéit vun den Ausrüstungskomponenten mat der Vakuumëmfeld besonnesch entscheedend. An engem Vakuum kënne Materialien sech opléisen, desorbéieren a Gas fräisetzen. Dat fräigesate Gas absorbéiert net nëmmen EUV-Liicht, wouduerch d'Intensitéit an d'Transmissiounseffizienz vum Liicht reduzéiert ginn, mä kann och optesch Lënsen kontaminéieren. Zum Beispill kann Waasserdamp d'Lënsen oxidéieren, a Kuelewaasserstoffer kënne Kuelestoffschichten op de Lënsen ofsetzen, wat d'Qualitéit vun der Lithographie eescht beaflosst.
Granit huet stabil chemesch Eegeschaften a setzt kaum Gas an engem Vakuumëmfeld fräi. Laut professionellen Tester ass an engem simuléierte Vakuumëmfeld vun enger Photolithographiemaschinn (wéi zum Beispill dem ultra-proppere Vakuumëmfeld, an deem sech den optesche Beliichtungssystem an den optesche Bildgebungssystem an der Haaptkammer befannen, wou H₂O < 10⁻⁵ Pa, CₓHᵧ < 10⁻⁷ Pa erfuerdert), d'Ausgasungsquote vun der Granitbasis extrem niddreg, vill méi niddreg wéi déi vun anere Materialien wéi Metaller. Dëst erméiglecht et dem Interieur vun der Photolithographiemaschinn, en héije Vakuumgrad a Rengheet fir eng laang Zäit ze halen, wat eng héich Transmittanz vum EUV-Liicht während der Transmissioun an eng ultra-propper Notzungsëmfeld fir optesch Lënsen garantéiert, d'Liewensdauer vum optesche System verlängert an d'Gesamtleistung vun der Photolithographiemaschinn verbessert.
Staark Schwéngungsbeständegkeet a thermesch Stabilitéit
Wärend dem Photolithographieprozess verlaangt d'Prezisioun op Nanometerniveau, datt d'Photolithographiemaschinn keng klengst Schwéngung oder thermesch Deformatioun huet. Ëmweltschwéngungen, déi duerch de Betrib vun aneren Ausrüstung an d'Personalbewegung an der Werkstatt entstinn, souwéi d'Hëtzt, déi vun der Photolithographiemaschinn selwer während dem Betrib produzéiert gëtt, kënnen all d'Genauegkeet vun der Photolithographie beaflossen. Granit huet eng héich Dicht an eng haart Textur, an et huet eng exzellent Schwéngungsbeständegkeet. Seng intern Mineralkristallstruktur ass kompakt, wat d'Vibratiounsenergie effektiv ofschwäche kann an d'Vibratiounsverbreedung séier ënnerdrécke kann. Experimentell Donnéeë weisen, datt ënner der selwechter Schwéngungsquell d'Granitbasis d'Vibratiounsamplitude ëm méi wéi 90% bannent 0,5 Sekonne reduzéiere kann. Am Verglach mat der Metallbasis kann et d'Ausrüstung méi séier erëm stabiliséieren, wouduerch déi präzis relativ Positioun tëscht der Photolithographielëns an dem Wafer garantéiert gëtt, an datt d'Musterverschäerfung oder d'Fehlausriichtung duerch Schwéngung vermeit gëtt.
Mëttlerweil ass de Koeffizient vun der thermescher Ausdehnung vu Granit extrem niddreg, ongeféier (4-8) ×10⁻⁶/℃, wat vill méi niddreg ass wéi dee vu metallesche Materialien. Wärend dem Betrib vun der Photolithographiemaschinn, och wann d'intern Temperatur wéinst Faktoren wéi Hëtztentwécklung vun der Liichtquell a Reibung vu mechanesche Komponenten schwankt, kann d'Granitbasis eng dimensional Stabilitéit behalen an ënnergeet keng bedeitend Deformatioun duerch thermesch Ausdehnung a Kontraktioun. Et bitt eng stabil an zouverlässeg Ënnerstëtzung fir den optesche System an d'Präzisiounsbewegungsplattform, wouduerch d'Konsistenz vun der Photolithographiegenauegkeet behalen gëtt.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 20. Mee 2025